用于制造半导体的高性能材料的生产一直在不断发展，以满足设备制造商日益增长的质量需求。几年前还可以接受的污染物浓度现在已变得不可接受。由于这些化学品都是水基化学品，因此减少污染的主要目标是保障UPW质量。金属元素（包括硼）、二氧化硅、总有机碳和微粒是这些生产商需要减少的最常见污染物。
大多数材料生产商都已拥有相应的系统和基础设施，可以通过改造和采用其他技术来减少污染物。然而，这并不像想象中那么容易，因为在满足生产需求的同时进行改造是一项挑战。
高性能材料生产商面临的废水挑战包括设备的老化、产量的增加、具有不同化学成分的新产品、城市取水的限制、设施排污量的限制或监管规范以及企业的可持续发展目标。
无论是新的生产设施还是现有的生产设施，Xylem都能提供超纯水和废水解决方案，以确保高性能材料生产商满足其UPW质量、废水排放和可持续发展目标。
