半導体・マイクロエレクトロニクス製造向け超純水装置

超純水（UPW）製造は、半導体やマイクロエレクトロニクス製造の重要な工程です。UPWの品質を正しく管理することで、生産歩留まりや品質を守り、運用効率も向上します。しかし品質管理を誤ると、大きなコスト損失につながります。
Xylemは40年以上の経験とCEDI（連続電気脱イオン化）技術を活かし、半導体向けに最適化された超純水ソリューションを提供しています。ここでは、製品管理ディレクター Patrick Buzzellが、ホウ素除去から安全性・メンテナンスまで、よくある質問にお答えします。

CEDIシステムの安全性は？

XylemのIonpure® CEDIシステムは、薬品を使わずに安全に超純水を供給します。従来のMBDI方式は、塩酸（HCl）や苛性ソーダ（NaOH）など危険な薬品を使用し、作業者の安全に大きなリスクを伴います。
CEDI方式は化学薬品を不要とし、半導体向け超純水設備の安全性を大幅に向上させます。

メンテナンスはどのくらい必要ですか？

Ionpure® CEDIシステムは、非常に少ないメンテナンスで長期間安定して稼働します。これにより、運用コストの削減とダウンタイムの最小化を実現します。

CEDIモジュールの寿命は？

Ionpure® CEDIモジュールの一般的な耐用年数は5〜7年です。この間、メンテナンスはほとんど必要ありません。交換も簡単かつ迅速で、Xylemはグローバルサポート体制でお客様を支援します。

環境・サステナビリティ目標への貢献は？

CEDIシステムは以下の点で大きな貢献をします：

• 再生薬品・樹脂不要による廃棄物削減
• 化学薬品輸送が不要でCO2削減
• エネルギー効率向上で消費電力削減
• これらにより、環境面だけでなくコスト面でもメリットがあります。

CEDIでホウ素を除去できますか？

ホウ素は電荷が弱く除去が難しい不純物ですが、Ionpure® VNX-Ultraはホウ素・シリカ除去率99.8%以上、ナトリウム・塩化物除去率99.9%以上を実現。単一パスでpptレベルのホウ素除去が可能で、ホウ素選択性樹脂も不要です。

半導体製造向け超純水装置とIonpure® CEDIシステムについて詳しくは、お問い合わせください！